Отечественный литограф на 150 нм уже готов.

Как оказалось, ЗНТЦ уже создал два опытных образца установки электронно-лучевой литографии с проектной нормой 150 нм. Оборудование сейчас проходит комплексные испытания, которые займут 4 месяца, а после его отправят в пункт назначения за 2 тыс. км от столицы.

Информация о готовности оборудования всплыла в тендерной документации на его транспортировку, но куда именно его отправят - неизвестно. Зато известно, что речь идёт о безмасочном литографе - он умеет «рисовать» микросхемы напрямую, без использования фотошаблонов.

Отсюда все плюсы такой установки: гибкость, быстрая смена рисунка без затрат на маски - идеально для прототипов и мелких серий спецмикросхем (космос, оборона). Метод удобен для НИОКР, но для крупных серий слишком медлителен.

МашТех в Telegram | в MAX