Тем временем, эксперты, российская команда при поддержке НТИ представила проект многолучевого электронного литографа для производства микросхем. Сердце установки — мультикатод, который формирует не один электронный луч, а сразу множество.
 
Заявленный выигрыш звучит космически: экспонирование кремниевой пластины должно ужаться с полутора-двух недель до 5–7 минут — то есть примерно в 3 тыс. раз быстрее классических однолучевых систем. Главный разработчик проекта Евгений Гиваргизов рассказал «Известиям», что сам мультикатод уже создан и прошёл практические испытания.

Фишка в подходе: если за рубежом один луч дробят сложной системой зеркал и затворов, то наши формируют множество независимых источников электронов на единой подложке — обещают, что это удешевит оборудование и снизит требования к инженерной инфраструктуре.

 
Как всегда, есть нюанс. Опытный образец разработчики рассчитывают собрать «примерно через три года». Диапазон норм заявлен от 350 нм «до нескольких нанометров» — вилка, в которую при желании помещается вообще всё. Для сравнения: живьём этим летом была показана готовая установка электронно-лучевой литографии на 150 нм, что, в целом, тоже несколько нанометров.
 
Эксперт НТИ по микроэлектронике Сергей Сазонов оценивает концепцию аккуратно: перспективно и при успешной реализации снизит зависимость от импортного оборудования. Словом, шлем искреннюю поддержку разработчикам. Идея красивая, физика правдоподобная, но три года при нынешней турбулентности — это три года. Держим кулачки и наблюдаем, ребятки.
 
Подписывайтесь на «ГК» в Telegram|на Sponsr|в MAX