В России создали оборудование для создание микросхем техпроцесса 65 нм

Научно-исследовательские институты, входящие в группу компаний «Элемент», завершили создание первых в России систем для плазмохимического осаждения и травления, которые позволяют производить микросхемы по топологическим нормам 65 нм на пластинах диаметром 200 мм и 300 мм.

По словам замминистра промышленности и торговли РФ Василия Шпака, особую ценность представляет модульность платформы, поскольку она позволяет отрабатывать процессы на существующем оборудовании и служит основой для перехода к более тонким техпроцессам.

?Еще больше о том, что #СделановРоссии, — по хештегу в ЗАН. Подписывайтесь!