Layout Sketch for Gen-4 References: возвращение скетчей
Runway снова радует (хотя кто сейчас не радует
)
Что нового:
• Runway представил Layout Sketch for Gen-4 References
• Можно рисовать с нуля или поверх готовой картинки
• Скетч задает композицию и основные объекты, обеспечивая консистентность кадров
• Фича доступна на всех тарифах
Почему это важно:
• Скетчи ускоряют прототипирование: набросал каркас, получил внятную сцену
• Консистентные изображения идут прямиком в видеогенераторы Gen-4 или чужие модели
• Тренд явный: инструменты сливаются в платформы.
Куда катится рынок:
• Платформенный подход вытесняет одиночные тулзы
• Производители борются не только за модели, но за UX
Мир креативного инструментария преображается.
Обсуждение 0
Обсуждение не доступно в веб-версии. Чтобы написать комментарий, перейдите в приложение Telegram.
Обсудить в Telegram