Физики создали плотную и горячую плазму для получения экстремального ультрафиолетового излучения для передовых полупроводниковых устройств

Специалисты ИЯФ СО РАН совместно с коллегами из @ipfran разрабатывают концепцию создания яркого стабильного источника экстремального вакуумного ультрафиолетового излучения (ВУФ излучения). Такой источник необходим в современных отечественных литографах для создания микросхем нового поколения. В отличие от используемой сейчас технологии, когда для создания ВУФ излучения используется лазерная импульсная плазма из капель олова, российские специалисты работают с лазерной плазмой из газа атмосферного давления – ксенона. Эксперименты ведутся на Новосибирском лазере на свободных электронах (НЛСЭ) – уникальной исследовательской установке ИЯФ СО РАН, единственной в мире, на которой можно создавать стабильный и непрерывный терагерцевый лазерный разряд.

На данный момент физики получили квазистационарную сферическую плазму, которая по диаметру, температуре и плотности отвечает начальным требованиям. Если концепция будет успешно продемонстрирована с помощью НЛСЭ, то отработанную технологию можно будет реализовать в более компактных установках, на основе разрабатываемых сейчас терагерцевых гиротронов ИПФ РАН.

Подробнее читайте в новости на нашем сайте


Слева направо: старший научный сотрудник ИПФ РАН кандидат физико-математических наук Александр Сидоров и ведущий научный сотрудник ИЯФ СО РАН доктор физико-математических наук Виталий Кубарев на пользовательской станции НЛСЭ. Фото Т. Морозовой